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作為中國(guó)高端納米激光粒度分析儀領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)，珠海真理光學(xué)儀器有限公司（以下簡(jiǎn)稱“真理光學(xué)”）于2025年7月24-25日受邀出席了在東莞喜來(lái)登大酒店舉辦的“2025年全國(guó)精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇（第三屆）”。本次論壇由中國(guó)電子材料行業(yè)協(xié)會(huì)粉體技術(shù)分會(huì)指導(dǎo)、粉體圈主辦，匯聚了半導(dǎo)體、航空航天、生物醫(yī)療等領(lǐng)域的頂尖專家及企業(yè)代表，共同探討精密研磨拋光技術(shù)的創(chuàng)新與突破。真理光學(xué)作為支持單位，攜其先進(jìn)的納米粒度檢測(cè)解決方案驚艷亮相，為行業(yè)帶來(lái)了一場(chǎng)技術(shù)盛宴。
高端技術(shù)碰撞，真理光學(xué)助力精密制造升級(jí)
本屆論壇以“新材料、新技術(shù)、新高度”為主題，吸引了包括廣東天域半導(dǎo)體、中國(guó)電子科技集團(tuán)第46研究所、浙江大學(xué)等200余家上下游企業(yè)及科研機(jī)構(gòu)參與。真理光學(xué)作為顆粒分析表征領(lǐng)域的標(biāo)桿，在會(huì)議中展示了其 納米激光粒度分析技術(shù) 在精密研磨拋光中的革命性應(yīng)用。
本屆論壇圍繞“磨料制備技術(shù)、工藝革新、裝備研發(fā)”三大議題展開。多位專家（如河北工業(yè)大學(xué)何彥剛博士、大連理工大學(xué)高尚教授）的報(bào)告中強(qiáng)調(diào)， 亞納米級(jí)表面粗糙度控制 已成為半導(dǎo)體和光學(xué)元件的關(guān)鍵挑戰(zhàn)。真理光學(xué)的技術(shù)方案，通過(guò)高精度粒度分布分析（D10/D50/D90），為拋光液和磨料的優(yōu)化提供了數(shù)據(jù)支撐，助力實(shí)現(xiàn)原子級(jí)精度的表面加工。
圖為：真理光學(xué)拋光論壇現(xiàn)場(chǎng)展位
作為本次會(huì)議支持單位，真理光學(xué)在展區(qū)設(shè)立技術(shù)咨詢臺(tái)，與行業(yè)同仁深入交流。其激光粒度儀和納米粒度儀系列產(chǎn)品，針對(duì)拋光漿料的均勻性和雜質(zhì)控制，展示了全新系列產(chǎn)品。真理光學(xué)LT3600激光粒度儀憑借0.015-3600μm全量程覆蓋和 10000次/秒超高速采樣，解決了拋光液中納米磨料（如納米金剛石、氧化鈰）的分布不均問(wèn)題。例如，在氧化鈰拋光液的應(yīng)用中，其技術(shù)可識(shí)別超細(xì)顆粒團(tuán)聚，避免拋光面型精度偏差，確保半導(dǎo)體晶圓的表面一致性。
通過(guò)Nanolink SZ902納米粒度儀的多角度動(dòng)態(tài)光散射（DLS）和Zeta電位聯(lián)控 技術(shù)，真理光學(xué)實(shí)現(xiàn)了拋光漿料的實(shí)時(shí)穩(wěn)定性監(jiān)測(cè)。Zeta電位＞30mV時(shí)，漿料分散性更佳，減少燒結(jié)過(guò)程中納米顆粒聚集導(dǎo)致的晶界缺陷，為碳化硅等硬脆材料的拋光提供可靠保障。
在7月25日的技術(shù)交流環(huán)節(jié)，真理光學(xué)團(tuán)隊(duì)與參會(huì)專家及企業(yè)代表進(jìn)行了多輪深度對(duì)話和專題對(duì)接。論壇期間期間，真理光學(xué)技術(shù)骨干分別與河北工業(yè)大學(xué)、江南大學(xué)、浙江大學(xué)等國(guó)內(nèi)知名的拋光技術(shù)專家分享了真理光學(xué)在納米拋光領(lǐng)域的解決方案和客戶案例，受到他們的關(guān)注與認(rèn)可。
展望未來(lái)：深耕技術(shù)創(chuàng)新，共筑精密制造中國(guó)夢(mèng)
本次東莞論壇不僅是技術(shù)展示的平臺(tái)，更是產(chǎn)業(yè)協(xié)同的橋梁。真理光學(xué)將持續(xù)推動(dòng) 納米粒度檢測(cè)技術(shù) 在高端研磨拋光領(lǐng)域的應(yīng)用，助力中國(guó)精密制造邁向原子級(jí)新時(shí)代。
